ASML：2016年EUV量產

（中央社記者張建中台北2日電）半導體設備廠艾司摩爾(ASML)亞太區技術行銷協理鄭國偉表示，目前極紫外光(EUV)微影技術在10奈米製程已可有效降低成本，預期2016年可導入量產。

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