半導體業卡脖子 中國促荷蘭在光刻機上公平以待

（中央社台北17日電）受荷蘭廠商ASML暫緩出售光刻機給中國廠商影響，中國半導體業發展速度被滯後。中國商務部副部長兼國際貿易談判副代表俞建華16日呼籲荷蘭在光刻機、華為5G等議題上，須秉持公平立場。

中國商務部網站發布通稿指出，俞建華和荷蘭外交部外貿與發展合作大臣卡格（Sigrid Kaag），於16日下午以視訊方式召開中荷經貿混委會第17次會議。

通稿指，中國願意在服務貿易、電子商務等領域擴大合作，「同時希望荷方在華為5G、EUV（極紫外光）光刻機等問題上秉持公平立場」。

光刻機是半導體產業的關鍵設備，而荷蘭廠商艾司摩爾（ASML）生產的光刻機，被認為擁有最先進技術。包括台積電、三星（Samsung），和中國半導體業領頭羊中芯國際，都爭相向ASML訂購光刻機。

中芯國際聯合執行長梁孟松日前在提交給董事會的辭職聲明中披露，中芯的7奈米（nm）技術已研發完成，2021年4月就可以進入風險量產。

他並指，5奈米和3奈米最關鍵、也是最艱鉅的8大項技術也已經有序展開， 「只待EUV光刻機的到來，就可以進入全面開發階段」。

隨著美國近年在科技領域防堵中國，路透社之前報導，美國官方自2018年起遊說荷蘭，而荷蘭隨後也暫緩簽發ASML對中國的EUV光刻機出口許可，此舉重挫了中芯國際的發展進程。

中國商務部通稿也引述俞建華表示，中國目前正加快建構國內國際雙循環的新發展格局，指這給中荷、中歐合作帶來新機遇。

他並強調，中荷雙方應繼續堅持多邊主義，推進全球貿易投資的自由化、便利化。（編輯：沈朋達/繆宗翰）1091217

本網站之文字、圖片及影音，非經授權，不得轉載、公開播送或公開傳輸及利用。