專家：中國晶片不只缺光刻機 諸多困難待突破

（中央社台北30日電）美國頒布禁令迫使中國急欲尋求晶片產製自主，但專家分析，中國晶片產業不只缺光刻機還有人才，其他像是設備、材料、設計、封裝、測試等領域，都需要更多有志者投入。

中國媒體騰訊科技今天報導，中國資深晶片研究專家汪波表示，一個典型的晶片技術，從實驗室研發到走向市場大約需要10年甚至更久，技術突破固然重要，穩定性、可製造性、良率也值得關注。

他說，即使是西方盟友之間也不可能分享最核心的晶片技術，只能通過自主研發，歐洲和日本的發展就是其中的例子。

而談到當前中國自主研發晶片面臨的瓶頸，汪波分析，中國不只缺高端光刻機以及相應的半導體材料，還急缺電子設計自動化（EDA）軟體。

他說：「沒有高端的EUV（極紫外光）光刻機，我們只是造不出最先進的芯片（晶片），而沒有了EDA設計軟件，所有的芯片設計公司都要停工。」

汪波表示，荷蘭半導體生產設備製造商艾司摩爾（ASML）經過多次延遲，最終克服難以想像的困難，2018年製成人類史上最精密的光刻機，每台成本高達2億美元（約新台幣61億元）。

他說，為打造EUV光刻機，艾司摩爾需要向全球數百家供應商採購零組件，而這些供應商又分佈在荷蘭、德國、日本、美國等世界各地，經通力合作才有了今天的EUV光刻機。

汪波表示，當然中國最缺的是人才，例如，EDA行業需要復合型的專才，既要懂寫程式和計算、又要懂半導體裝置或電路等，培養起來難且慢。

他說，此外，在晶片製造、設備、材料、設計、封裝和測試等領域，都需要更多有志於面對挑戰的人投入。

汪波指出，自主和全球化並行不悖，但晶片產品可藉由全球化取得，但不可能藉由全球化獲得晶片核心技術。

他說，當前國際情勢和趨勢依然影響著晶片技術的發展，例如受到科技脫鉤影響，中國從國外引進晶片技術的途徑受到限制以致業界感到陣痛，但如此也有助於下決心，以建立自主的完整研發生產鏈。（編輯：曹宇帆/陳沛冰）1120530

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