紐約時報：曝光機成中美晶片衝突關鍵角色
（中央社台北23日電）美國政府對中國實施晶片製造設備出口管制措施，其中曝光機設備成為關鍵；專家認為，管制雖然不會立即摧毀中國的晶片製造商，但將「極大地限制」中國製造最先進半導體能力。
紐約時報今天報導，隨著美國試圖減緩中國提高軍事技術的能力，將錯綜複雜的電路印到晶片上的曝光機設備，已成為一個關鍵的箝制點。
報導指出，美國政府已採取重要行動，禁止全球公司向中國出口更多種類的晶片製造機器，除非獲得美國政府特許。
這一行動可能對中國的晶片製造業造成重大影響，並顯示了美國對其監管權力的非同尋常使用方式。即美方認為，只要在美國境外製造的設備上有一個美國製造的零件的話，他們就能對其進行監管。
這一決定使美國政府對荷蘭和日本的公司獲得新控制權，因為一些最先進的晶片製造設備正是來自這2國家。更具體而言，美國的規定將導致一些使用深紫外光技術的曝光機無法運往中國，主要由荷蘭公司艾司摩爾（ASML）製造。
然而，美國的新出口管制規定可能會影響ASML在中國市場的業務，預計明年將導致其來自中國市場的收入減少10%到15%。
荷蘭國際關係研究所中國問題研究員何森璱（Vera Kranenburg）表示，雖然ASML已明確表示將遵守這些規定，但禁止其向中國出口更先進曝光機的規定已經令它感到惱火。
ASML執行長韋尼克（Peter Wennink）表示，公司將無法再把某些工具運往「少數」中國晶片工廠，並補充說，「2023年賣出去的設備仍將發貨，只是2024年我們不能再賣了」。
在向中國售出的設備中，美國及其盟友曾認為，深紫外光曝光機的風險較小，因製造的晶片與最尖端的產品晶片有相當大的差距。
但這想法在今年夏天受到考驗，今年8月中國電信設備華為出人意料地發布了一款新智慧型手機，手機使用了中國製造的7奈米晶片，在技術上只比台灣製造的最先進晶片落後兩代。
分析人士得出的結論是，中國的中芯國際使用荷蘭的深紫外光曝光機造出了7奈米晶片。
華盛頓「戰略暨國際研究中心」（CSIS）技術專家艾倫（Gregory C. Allen）說，但這一新事態令美國政府知道，沒有可浪費的時間了，迫切需要更新出口管制措施。
艾倫說，出口管制措施不一定會馬上摧毀中國最先進的晶片製造商，因為它們已經儲備了大量的先進設備。但他說，新措施將「極大地限制」他們製造最先進半導體的能力，比如7奈米晶片。
曝光機對中國晶片製造業至關重要，中國目前尚不具備製造這些先進曝光機的技術，由於這些設備需要定期更新和維護，在美國出口管制下，可能導致中國企業在某個時候遇到製造問題。（編輯：唐佩君/邱國強）1121023
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