中商務部長盼進口曝光機 荷官員強調安全可控前提
（中央社記者張淑伶上海28日電）中國商務部長王文濤昨天在北京向荷蘭貿易部長范李文表示，希望荷方確保製造晶片的曝光機貿易能正常進行。荷方則說，荷蘭出口管制「不針對任何國家」，安全可控仍是前提。
荷蘭首相呂特（Mark Rutte）訪問中國，范李文（Geoffrey van Leeuwen）隨行，並在27日與王文濤在北京會面。
根據中國商務部官網早上發布的內容，雙方談話重點是有關曝光機（中國稱光刻機）輸入中國和加強半導體產業合作等議題。
王文濤說，希望荷方秉持契約精神，支持企業履行合同義務，確保光刻機貿易正常進行。要防止「安全泛化」，共同維護全球半導體產業鏈供應鏈穩定，推動雙邊經貿關係持續健康發展。
范李文表示，中國是荷蘭最重要的經貿夥伴之一。但他強調，荷蘭出口管制不針對任何國家，所做決定基於獨立自主的評估，並在安全可控前提下盡可能降低對全球半導體產業鏈供應鏈的影響。
他並表示，期待荷中兩國進一步拓展綠色轉型、養老服務等領域合作。
荷蘭晶片設備製造商艾司摩爾（ASML）出售給中國的設備中，光是2023年價值就高達約60億歐元（約新台幣2082億元），為同年艾司摩爾的第2大市場，僅次於台灣，高於韓國。不過，艾司摩爾曾表示，今年起預計將無法從荷蘭政府得到向中國客戶運輸其先進「深紫外光曝光機」（Deep Ultraviolet lithography, DUV）設備的許可證。
請輸入正確的電子信箱格式美國之音（VOA）報導，范李文26日接受荷媒採訪時說，「保護艾司摩爾的利益是第一位的」，他也強調，「（荷蘭）自身的國家安全和合作夥伴的國家安全高於經濟利益。」
據報導，范李文今年2月在回覆荷蘭國會質詢時說，中國在科技領域的「軍民融合」戰略促使荷蘭政府作出限制對中國曝光機出口的決定。他說，「中國著眼於引進外國專業技術，包括荷蘭在微影製程領域的專業知識，以促進其在軍事技術發展自給自足。 」（編輯：陳鎧妤）1130328
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