前台灣美光員工竊技術投靠 聯電遭起訴

（中央社記者蘇木春、張建中台中6日電）前台灣美光公司何姓與王姓員工，涉帶機密技術投靠聯電，並由戎姓男子使用取得技術加速製程設計，經台灣美光向檢方報案。台中地檢署今天起訴何姓男子等3人與聯電。

聯華電子股份有限公司發布重大訊息表示，截至目前為止尚未收到相關起訴書，待收到後起訴書後，將配合司法程序，委請律師處理。

聯電說，一向不遺餘力維護營業秘密，客觀上已符合現行實務避免侵害他人營業秘密措施。台灣台中地方法院檢察署於個案採取的認定標準，是否符合現行實務，尚待法院依法檢驗。

中檢在起訴書中指出，41歲何姓男子與42歲王姓男子原為瑞晶電子公司員工，民國102年於美國美光科技公司收購瑞晶後，更名為台灣美光公司。

105年1月間，聯電與中國晉華公司合作，協議進行32奈米與32S奈米動態隨機存取記憶體（DRAM）製程開發，而何姓男子104年10月自台灣美光離職，同年11月到聯電任職，王姓男子則在105年3月到聯電任職。

何姓男子涉嫌利用先前在美光公司權限複製的營業機密資料，帶到聯電辦公室內使用，幫聯電與晉華在中國地區量產DRAM晶圓。

王姓男子則是帶原先在美光公司取得的DRAM晶圓製造方法、技術、製程設計等電磁資料到聯電，由戎姓男子加速設計製程規則。

台灣美光在王姓男子離職後，經內部調查發現王姓男子涉嫌擅自重製電磁紀錄，攜往聯電使用。經蒐證後提告，經台中地院核發搜索票，調查官今年2月前往聯電台南廠搜索。

聯電得知檢調前往搜索通知戎姓男子，戎姓男子卻通知何姓與王姓男子速刪除來自台灣美光公司資料。何姓與王姓男子向檢警供稱，帶走的資料只供個人研究；戎姓男子則辯稱只提供王姓男子製程設計意見，但檢方不採信。

中檢偵結，依違反營業秘密法、著作權法起訴何姓男子、王姓男子、戎姓男子與聯電。1060906

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