荷蘭擴大曝光機出口管制 中國稱美國脅迫個別國家

（中央社記者吳柏緯上海8日電）美國宣布收緊製造先進半導體設備所需機器的出口管制後，荷蘭政府隨即宣布擴大限制半導體製造設備出口。中國商務部今天稱此舉嚴重威脅全球半導體產業鏈，並批評美國「脅迫個別國家」。

中國商務部今天上午在官網以「商務部新聞發言人就荷蘭半導體出口管制問題答記者問」為題，回應荷蘭管制新規的議題。

文中指出，近來，中國與荷蘭雙方就半導體出口管制問題進行了多層級、多次的溝通磋商。荷蘭在2023年的半導體出口管制措施基礎上，進一步擴大對曝光機的管制範圍，中國對此表示不滿。

此外，中國商務部也把矛頭指向美國，稱近年來美國為維護自身全球霸權，不斷泛化國家安全概念，「脅迫個別國家」加嚴半導體及設備出口管制措施，「嚴重威脅全球半導體產業鏈、供應鏈穩定，嚴重損害相關國家和企業正當權益，中方對此堅決反對」。

這篇文章稱，荷蘭應從維護國際經貿規則及中荷經貿合作大局出發，尊重市場原則和契約精神，避免有關措施阻礙中荷兩國的半導體業正常合作和發展，不濫用出口管制措施，切實維護中荷企業和雙方共同利益，維護全球半導體產業鏈、供應鏈穩定。

根據路透社日前報導，荷蘭的新管制措施上路後，半導體生產設備製造商艾司摩爾（ASML）的1970i和1980i浸潤式微影系統深紫外光曝光機（DUV）會受到影響，兩款機型大約是ASML所屬DUV產品線的中階位置。（編輯：陳鎧妤）1130908

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