艾司摩爾首台High-NA EUV曝光機 出貨英特爾

（中央社阿姆斯特丹21日綜合外電報導）荷蘭半導體設備製造商艾司摩爾（ASML）今天表示，已經將第一台高數值孔徑極紫外光（High-NA EUV）曝光機出貨給美國晶片製造大廠英特爾（Intel Corp.）。

路透社報導，每台新機器成本將超過3億美元，料將幫助電腦晶片製造商生產更小、更快的半導體。

艾司摩爾在社群媒體平台X上發布一張機器從荷蘭費爾德霍溫（Veldhoven）總部出貨的照片，並且發文表示：「我們很興奮也很驕傲，能夠向英特爾交付我們第一套高數值孔徑極紫外光系統。」

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艾司摩爾在曝光機市場上居主導地位，曝光機利用雷射把電路圖印在晶片上。高數值孔徑機器組裝後比一輛卡車還大，將用250個單獨的貨箱運送，其中包括13個大型貨櫃，預計將於2026年或2027年開始用於商業晶片製造。

英特爾於2022年訂購首台高數值孔徑試驗機。已經訂購這款機器的晶片製造商還包括台積電、三星（Samsung）、SK海力士（SK Hynix）和美光（Micron）。（譯者：陳昱婷/核稿：何宏儒）1121222

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